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      ?臺積電、世界先進GaN制程投片量大增,將進入收割期

      文章出處:半導體 責任編輯:上海意泓電子科技有限責任公司 發(fā)表時間:
      2020
      11-10

      受惠于5G即將邁入商轉及車用電子、物聯(lián)網(wǎng)大勢所趨,第三代半導體材料氮化鎵(GaN)與碳化硅(SiC)進入快速成長期,國際IDM大廠高端產(chǎn)品相繼跨入第三代半導體材料制程,臺積電、世界先進GaN制程投片量大增,今、明兩年進入收割期。

      臺積電與世界先進著手研發(fā)GaN制程技術多年,技術成熟進入量產(chǎn),目前臺積電6英寸產(chǎn)能開出GaN制程提供德商戴樂格(Dialog)產(chǎn)出電源轉接芯片;而世界先進則與設備材料廠Kyma、轉投資GaN硅基板廠QROMIS攜手合作,在去年陸續(xù)為電源管理IC客戶開出8英寸產(chǎn)能。

      Dialog指出,以GaN生產(chǎn)電源轉換控制器具備高效率、體積小、更高功率優(yōu)異特性,帶來全世界最快速的電晶體。集邦科技旗下拓墣產(chǎn)業(yè)研究指出,GaN與SiC除了耐高電壓的特色外,也分別具備耐高溫與適合在高頻操作下的優(yōu)勢,不僅可使芯片面積可大幅減少,并能簡化周邊電路的設計。 

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