?ASML 2018第一季營(yíng)收表現(xiàn)強(qiáng)勁，全年將完成20臺(tái)EUV

EUV導(dǎo)入晶片量產(chǎn)階段，訂單持續(xù)涌入
                                                                                                                     
全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾 (ASML) 今日公佈2018第一季財(cái)報(bào)。ASML第一季營(yíng)收淨(jìng)額 (net sales) 22.9億歐元，淨(jìng)收入5.4億歐元，毛利率 (gross margin) 為48.7%。預(yù)估2018第二季營(yíng)收淨(jìng)額 (net sales) 將落在25~26億歐元之間，毛利率 (gross margin) 約為43%，反映EUV營(yíng)收將大幅增加。
 
ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)溫彼得 (Peter Wennink) 表示 : 「第一季業(yè)績(jī)表現(xiàn)強(qiáng)勁，超出預(yù)期，主要來(lái)自于大量出貨，以及客戶對(duì)于深紫外光(DUV)微影系統(tǒng)和全方位微影方案(Holistic Litho)的需求。在EUV方面，本季我們共完成3臺(tái)EUV系統(tǒng)的出貨，而另1臺(tái)則正準(zhǔn)備出貨。我們?cè)诘谝患精@得9臺(tái)NXE:3400B的訂單，也確認(rèn)EUV業(yè)務(wù)持續(xù)成長(zhǎng)。近來(lái)不同客戶都公開討論將于今年底前將採(cǎi)用EUV進(jìn)行晶片量產(chǎn)。因此，我們計(jì)畫在2018年完成20臺(tái)EUV系統(tǒng)出貨，并在2019年將 EUV出貨量拉升到30臺(tái)以上，全力協(xié)助客戶達(dá)成其量產(chǎn)目標(biāo)?！戈P(guān)于下一代High-NA (高數(shù)值孔徑) EUV產(chǎn)品，我們也開始從三個(gè)主要客戶方面接到4臺(tái)訂單，并售出8個(gè)High-NA EUV系統(tǒng)的優(yōu)先購(gòu)買權(quán) (options)?！?br/> 
High-NA 是EUV微影技術(shù)的延伸，其解析度(resolution)和微影疊對(duì)(overlay)能力比現(xiàn)行EUV系統(tǒng)提升70%，能夠?qū)崿F(xiàn)業(yè)界未來(lái)對(duì)于幾何式晶片微縮(geometric chip scaling) 的要求。

「這是一個(gè)好的開始，我們也樂(lè)觀預(yù)期2018年ASML將在業(yè)績(jī)和獲利能力上持續(xù)穩(wěn)健成長(zhǎng)，」溫彼得說(shuō)。
 
第一季產(chǎn)品重點(diǎn)摘要

深紫外光 (DUV)微影 : 我們最新的NXT機(jī)臺(tái)已經(jīng)達(dá)到每天曝光6,000片晶圓的產(chǎn)能里程碑，支援客戶量產(chǎn)需求。

全方位微影方案 (Holistic Lithography) : 本季已完成採(cǎi)用多重電子束技術(shù) (multiple e-beam) 的圖案缺陷量測(cè)(pattern fidelity metrology)系統(tǒng) — ePfm5出貨。該系統(tǒng)是ASML收購(gòu)漢微科后共同研發(fā)的產(chǎn)品，具備更高的解析度以檢測(cè)系統(tǒng)缺陷。這項(xiàng)創(chuàng)新的電子束量測(cè)系統(tǒng)和ASML的運(yùn)算式微影(Computational Lithography)軟體結(jié)合，能夠在實(shí)際製造晶片的過(guò)程中，即時(shí)提供電子束的反饋給微影系統(tǒng)。ASML也已經(jīng)證實(shí)多重電子束能夠進(jìn)一步提升電子束量測(cè)的產(chǎn)能，應(yīng)用于量產(chǎn)階段。

極紫外光(EUV)微影 : 吞吐量(throughput)持續(xù)提升，在一個(gè)客戶端的測(cè)試中，達(dá)到每小時(shí)曝光125片晶圓的量產(chǎn)里程碑，同時(shí)在ASML的實(shí)驗(yàn)室中展現(xiàn)每小時(shí)曝光140片晶圓的實(shí)力。